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English 绿激光 F-Theta 场镜专门针对 532nm 激光系统优化，具有高透过率和稳定性能。它能在整个打标区域内保持均匀的光斑尺寸，非常适合精密加工应用，例如微雕刻、薄膜切割、PCB 打孔和半导体封装。镜头采用低畸变设计，并配备高损伤阈值镀膜，能够在高要求的工业环境中长期稳定工作。
绿激光 F-Theta 场镜专门针对 532nm 激光系统优化，具有高透过率和稳定性能。它能在整个打标区域内保持均匀的光斑尺寸，非常适合精密加工应用，例如微雕刻、薄膜切割、PCB 打孔和半导体封装。镜头采用低畸变设计，并配备高损伤阈值镀膜，能够在高要求的工业环境中长期稳定工作。
焦距, 工作幅面: 不同焦距和工作幅面场镜可选
聚焦光斑圆度: 中心与边缘光斑一致性好、圆度高
实现精细微纳加工: 聚焦光斑小，实现精细微纳加工
极低的能量损耗: 高透过率，高损伤闯值热透镜效应小
绿激光 F-Theta 场镜 | |||||||||||
| 规格型号 | 焦距 | 通光孔径 | 扫描角度 | 打标范围 | 适用波长 | 聚焦光斑 (μm) | 外形尺寸 (mm*mm) | M1距离 (mm) | M2距离 (mm) | 工作距离 (mm) | 连接方式 Method |
| GF061004GY | 64 | Φ10 | ±25° | 0*40 | 532 | 7μm | Φ90* 62 | 16.5 | 22.5 | 74.1 | M85*1.0 |
| GF071004GY | 74 | Φ10 | ±21.5° | 40*40 | 532 | 8μm | Φ90* 70 | 12.6 | 15.5 | 91.2 | M85*1.0 |
| GF101506GY | 100 | Φ15 | ±22° | 58*58 | 532 | 7μm | Φ103*72 | 12.6 | 18 | 135.5 | M85*1.0 |
| GF121206GY | 115 | Φ12 | ±21° | 65*65 | 532 | 8.5μm | Φ112* 93 | 14.7 | 23.5 | 147.2 | M85*1.0 |
| MF161610GOO | 164 | Φ16 | ±25° | 100*100 | 532 | 10μm | Φ96*50 | 16.5 | 22.5 | 188.5 | M85*1.0 |
| GF652041G | 650 | Φ20 | ±24° | 410*410 | 532 | 35μm | Φ135* 124.5 | 25.5 | 24.8 | 530 | M85*1.0 |
